ICC訊 在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm節(jié)點(diǎn)之后,EUV光刻機(jī)是少不了的關(guān)鍵設(shè)備,目前只有ASML能制造,單臺售價10億人民幣,今年底還會迎來下一代EUV光刻機(jī),價格也會大漲。
光刻機(jī)的分辨率越高,越有利于制造更小的晶體管,而分辨率也跟光刻機(jī)物鏡的NA數(shù)值孔徑有直接關(guān)系,目前的EUV光刻機(jī)是NA=0.33技術(shù)的,下代EUV光刻機(jī)則是提升到NA=0.55。
根據(jù)ASML公司高管日前透露的消息,NA=0.55的EUV光刻機(jī)今年底會出貨首個商用原型,2025年會正式量產(chǎn)。
他沒有公布具體哪家公司會首發(fā)NA=0.55光刻機(jī),但之前英特爾公司表示他們會率先使用下代EUV光刻機(jī),已經(jīng)巨資提前下單。
按照2025年出貨的時間點(diǎn)來看,臺積電、英特爾、三星的2nm級別工藝是趕不上的,最快也要到1.4nm工藝才能用上NA=0.55光刻機(jī),未來生產(chǎn)1nm工藝則是不可少的設(shè)備。
伴隨技術(shù)提升的還有售價,由于更加復(fù)雜、精密,NA=0.55的EUV光刻機(jī)價格大幅上漲,具體多少不確定,此前消息稱不低于4億美元,人民幣接近30億元了,是現(xiàn)在的2-3倍。
這還不排除未來正式商用的時候價格進(jìn)一步上漲,畢竟還要好幾年才能上市。