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臺(tái)積電:2nm N2 工藝預(yù)計(jì) 2025 年量產(chǎn),N3 家族將成另一大“搖錢樹”

摘要:5 月 5 日消息,臺(tái)積電今日在其提交給股東的年度報(bào)告中,分享了有關(guān)其下一代 2nm 半導(dǎo)體制造工藝的詳細(xì)信息。

  ICC訊  5 月 5 日消息,臺(tái)積電今日在其提交給股東的年度報(bào)告中,分享了有關(guān)其下一代 2nm 半導(dǎo)體制造工藝的詳細(xì)信息。

  臺(tái)積電董事長(zhǎng)劉德音、總裁魏哲家在致股東的營(yíng)業(yè)報(bào)告書中回顧過(guò)去臺(tái)積電過(guò)去一年發(fā)展,并提及臺(tái)積電技術(shù)發(fā)展,正為預(yù)計(jì)于 2025 年開始量產(chǎn)的 2nm 技術(shù)(N2)做準(zhǔn)備,該制程技術(shù)將在新竹和臺(tái)中科學(xué)園區(qū)生產(chǎn)。

  技術(shù)發(fā)展方面,臺(tái)積電致股東營(yíng)業(yè)報(bào)告書說(shuō),該公司的 2nm 技術(shù)將采用納米片(Nanosheet)電晶體結(jié)構(gòu),并提供全制程效能和功耗效率的效益。相較于 N3E,N2 在相同功耗下速度增快 10%-15%,或在相同速度下功耗降低 25%-30%,以滿足日益增加的節(jié)能運(yùn)算需求。

  臺(tái)積電還稱,N2 技術(shù)的研發(fā)按照計(jì)劃進(jìn)行中,預(yù)計(jì)于 2024 年試產(chǎn),并于 2025 年量產(chǎn)。

  報(bào)告書還稱,臺(tái)積電 2022 年提升研發(fā)費(fèi)用至 54.7 億美元(IT之家備注:當(dāng)前約 377.98 億元人民幣),5nm 家族技術(shù)已邁入量產(chǎn)的第三年,為臺(tái)積公司營(yíng)收貢獻(xiàn) 26%。

  N4 工藝已于 2022 年開始量產(chǎn)。臺(tái)積電還推出了 N4P 和 N4X 工藝,N4P 研發(fā)進(jìn)展順利,預(yù)計(jì)于 2023 年量產(chǎn);N4X 是臺(tái)積電第一個(gè)專注于高效能運(yùn)算(HPC)、高工作負(fù)載的技術(shù),預(yù)計(jì)于 2023 年進(jìn)行客戶產(chǎn)品設(shè)計(jì)定案。

  繼 N3 工藝于 2022 年進(jìn)入量產(chǎn),具備更好的性能、功耗和良率的 N3E 預(yù)計(jì)于 2023 年下半年量產(chǎn)。臺(tái)積電表示,N3 和 N3E 客戶參與度非常高,量產(chǎn)第一年和第二年的產(chǎn)品設(shè)計(jì)定案數(shù)量將是 N5 的兩倍以上,并預(yù)期 N3 家族將成為臺(tái)積電另一個(gè)大規(guī)模且有長(zhǎng)期需求的制程技術(shù)。

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