ASML新一代高NA EUV光刻機樣機將于明年上半年面世

  ICC訊  據(jù)外媒報道，半導(dǎo)體巨頭ASML目前正準(zhǔn)備推出一款新的價值4億美元的下一代光刻機，該產(chǎn)品或?qū)⒃?020年代末成為其旗艦產(chǎn)品。

  這款光刻機重量超過200噸，大小如同雙層巴士，將比上一代機型大30%左右，需要三架波音747分段運輸。

  ASML總部的高管透露，一個樣機正在按計劃于2023年上半年完成。

  該項目的命運對于ASML的客戶也很重要。在全球供應(yīng)短缺的情況下，芯片制造商競相擴大生產(chǎn)。

  行業(yè)專家丹?哈奇森(Dan Hutcheson)表示，這項被稱為“高NA”版本的 EUV 新技術(shù)，可能會為一些芯片制造商帶來顯著優(yōu)勢。“這有點像誰有最好的槍,”他說。臺積電在21世紀(jì)10年代末首次整合了ASML的EUV光刻機，使其競爭對手黯然失色。

  據(jù)了解，光刻技術(shù)是決定一個芯片上的小型電路的關(guān)鍵因素，高NA技術(shù)有望降低66%的尺寸。這也意味著芯片制程將進一步升級。在芯片制造中，在同一個空間中安裝的晶體管越多，芯片的速度就越快，能量效率也就越高。

  ASML表示，該公司已接到5份試驗機訂單，預(yù)計2024年交貨，另有“超過5份”來自5個不同客戶的訂單，要求2025年交貨，以獲得更快的生產(chǎn)模式。