Bookham創(chuàng)始人談硅光子 應(yīng)用領(lǐng)域問題尚存

　　ICCSZ訊 Lightwave網(wǎng)站報(bào)道，一家名叫Rockley光子的新興公司正在利用硅光子技術(shù)開發(fā)系統(tǒng)級(jí)產(chǎn)品。根據(jù)Lightwave對(duì)Rockley光子CEO Andrew Rickman的采訪，盡管他不肯透露Rockley產(chǎn)品的具體情況，但他還是表達(dá)了自己對(duì)硅光子技術(shù)發(fā)展的一些看法。

　　Rickman認(rèn)為當(dāng)前太多的硅光子公司謀求利用現(xiàn)成的CMOS制造工藝來開發(fā)8-12寸晶圓產(chǎn)品。但這一工藝應(yīng)用到硅光子領(lǐng)域有兩個(gè)問題。首先是這個(gè)工藝可能不適合光器件的生產(chǎn)。光阻(photo resist)和光刻工具不能在多個(gè)微米的級(jí)別工作，而只能在亞微米級(jí)別。因此這種工藝開發(fā)的光波導(dǎo)只能是亞微米級(jí)別的，從而令耦合變得非常困難。在小于波長范圍的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中，制造工藝變得極為敏感。他檢查認(rèn)為亞微米工藝幾乎是無法實(shí)現(xiàn)的。物理本質(zhì)要求必須有比現(xiàn)有的CMOS工藝更好的技術(shù)才能容忍這樣的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，這將會(huì)是非常昂貴的。

　　正因?yàn)槿绱耍琑ickman傾向于容忍度更高的傳統(tǒng)工藝。大一點(diǎn)的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)可以更好地控制有效折射率，更有效地控制光路，可以比亞微米結(jié)構(gòu)容易100倍以上。對(duì)于Rockley來說，他們的制造工藝?yán)昧薈MOS的工具和部分工序，但并不是真正的CMOS工藝。

　　Rickman認(rèn)為第二個(gè)問題是來自當(dāng)下一些公司對(duì)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的依賴。大公司有能力等到量產(chǎn)，小公司不行。因此這項(xiàng)技術(shù)成功的關(guān)鍵不在于你用了硅光子技術(shù)，而在于你為客戶創(chuàng)造了獨(dú)特的價(jià)值。他說他們開發(fā)的東西現(xiàn)在也許并不存在，他們要做的是當(dāng)前電信市場真正需要的東西。

　　Rickman是硅光子集成技術(shù)的先驅(qū)Bookham公司創(chuàng)始人，后來又參與創(chuàng)建另一家硅光子公司Kotura。去年夏天他和Alan Zilkie共同創(chuàng)辦Rockley光子公司。Rockley公司注冊(cè)在英國，但主要工程師團(tuán)隊(duì)在洛杉磯的Padadena。加州還擁有未來Rockley的主要幾家潛在客戶。

　　Rockley光子目前剛剛完成第一輪融資。按照Lightwave的報(bào)道，他們的思路看起來或許會(huì)和Infinera一樣，但是文章中提到潛在客戶在加州，那或許會(huì)是思科，這樣和Infinera又不一樣。

　　Bookham是硅光子的先驅(qū)，這樣的背景讓Rickman一定對(duì)硅光子技術(shù)的發(fā)展有特別的認(rèn)識(shí)。風(fēng)投對(duì)Rockley的看好，或許成為我們觀察硅光子發(fā)展的另一個(gè)角度。