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Altera與
TSMC聯(lián)合開發(fā)世界上第一款異質(zhì)混合
3D IC測(cè)試平臺(tái),采用了CoWoSTM 工藝,
Altera利用
TSMC的CoWoS制造和裝配工藝,開發(fā)下一代3D器件 。
2012年3月23號(hào),北京——
Altera公司(Nasdaq: ALTR)與
TSMC (TWSE: 2330, NYSE: TSM)今天宣布,使用
TSMC的芯片-晶圓-基底 (CoWoS)集成工藝,聯(lián)合開發(fā)了世界上第一款異質(zhì)混合
3D IC測(cè)試平臺(tái)。異質(zhì)混合3D IC是一種創(chuàng)新技術(shù),在一個(gè)器件中可實(shí)現(xiàn)多種技術(shù)的堆疊,包括模擬電路、邏輯和存儲(chǔ)器等,從而使業(yè)界超越了摩爾定律。
TSMC的集成CoWoS工藝為半導(dǎo)體公司提供開發(fā)3D IC和端到端解決方案,包括前端制造工藝以及后端裝配和測(cè)試解決方案。
Altera是第一家使用
TSMC的CoWoS工藝,開發(fā)并完成異質(zhì)混合測(cè)試平臺(tái)的半導(dǎo)體公司。利用這一平臺(tái)以及其他測(cè)試平臺(tái),
Altera能夠迅速測(cè)試其3D IC的功能和可靠性,以確保滿足良率和性能目標(biāo)。
TSMC的CoWoS工藝結(jié)合
Altera在硅片和知識(shí)產(chǎn)權(quán)(IP)方面的技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì),為高速而具成本效益的3D IC產(chǎn)品開發(fā)和未來(lái)部署奠定了基礎(chǔ)。
Altera在異質(zhì)混合3D IC方面的理念包括,開發(fā)衍生器件支持用戶根據(jù)他們的應(yīng)用需求,使用各種硅片IP并能夠相互匹配。
Altera將充分發(fā)揮在FPGA技術(shù)上的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì),在FPGA中集成各種技術(shù),包括,CPU、ASIC、ASSP,以及存儲(chǔ)器和光器件等。
Altera的3D IC支持用戶采用靈活的FPGA來(lái)突出其在應(yīng)用上的優(yōu)勢(shì),同時(shí)提高系統(tǒng)性能,降低系統(tǒng)功耗和系統(tǒng)成本,減小外形封裝。
Altera全球運(yùn)營(yíng)和工程資深副總裁Bill Hata評(píng)論說(shuō):“我們與IMEC和SEMATECH等標(biāo)準(zhǔn)組織合作,使用
TSMC前沿的CoWoS制造和裝配工藝,這非常有利于我們?cè)谇‘?dāng)?shù)臅r(shí)間,為用戶交付功能最適合的異質(zhì)混合3D器件。在器件中實(shí)現(xiàn)異質(zhì)混合3D功能使我們能夠繼續(xù)技術(shù)創(chuàng)新之路,保持領(lǐng)先優(yōu)勢(shì),超越摩爾定律。”
TSMC北美地區(qū)總裁Rick Cassidy評(píng)論說(shuō):“與
Altera的合作要追溯到20年前,那時(shí),我們密切協(xié)作,開發(fā)了最前沿的制造工藝和半導(dǎo)體技術(shù)。與
Altera合作開發(fā)下一代3D IC器件是一個(gè)很好的例子,展示兩家公司如何可以共同努力推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)到另一個(gè)層面。
CoWoS是一種集成工藝技術(shù),通過(guò)芯片-晶圓 (CoW)綁定工藝,將器件硅片芯片集成到晶圓片上。CoW芯片與基底直接連接(CoW-On-Substrate),形成最終的元器件。通過(guò)將器件硅片集成到初始的厚晶圓硅片上再完成制程工藝,可以避免因?yàn)榧庸ざl(fā)的翹變問題。
TSMC 計(jì)劃提供CoWoS為一個(gè)一站式制造服務(wù)。