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永鼎光電子:三模共存波分組件助力50G PON突破技術挑戰(zhàn)

摘要:永鼎推出50G PON濾光片突破50G PON 30dB隔離度難題,使得G/XG(S)/50G PON三模共存的Zblock可以按照任意波長順序組裝

  ICC訊 近日,2023首屆蘇州光電技術產業(yè)論壇成功舉辦,來自光電產業(yè)、科研院所和投資機構的與會嘉賓近400人,聚焦光通信、光電子技術應用前景和機遇。本次會議上,高端光通信器件提供商江蘇永鼎光電子技術有限公司副總經理王明利博士發(fā)表了《首創(chuàng)三模共存50G PON波分復用器件》演講報告,講述了50G PON技術標準、產業(yè)挑戰(zhàn)以及永鼎光電子在50G PON光器件領域的創(chuàng)新。

  全球光纖網絡接入技術廣泛應用于家庭、園區(qū)、城市和制造業(yè)等重要場景,其中無源光網絡(PON)是首選的主導技術,可實現低時延和可持續(xù)性,并滿足不斷增長的帶寬需求。PON解決方案需要支持帶寬升級和保護原有投資,實現與早期技術的共存。如今10G PON成為行業(yè)主流選擇,下一代重要演進方向就是50G PON。

  兼容共存是50G PON標準發(fā)展關鍵考慮因素進,根據ITU-T G. 9805系列標準,為兼容現網的GPON(1290nm-1330nm)/XG(S) PON(1260nm-1280nm),50G PON應采用US3(1284nm-1288nm)波長,通過波分方式實現與現網GPON及XG(S) PON的共存。中國電信指出,50G PON發(fā)展挑戰(zhàn)在于,其與GPON上行波長間隔只有2nm,要實現30dB隔離度的波分復用需要光通信產業(yè)鏈攜手突破技術瓶頸。王明利表示,在OLT側的RX信號分離,GPON濾光片的透射帶寬達到40nm(1290-1330nm),意味著僅有2nm過渡區(qū)在50G-PON帶邊1288nm要實現30dB隔離度。

  針對50G PON 30dB隔離度的技術難題,永鼎光電子基于核心鍍膜技術及先進的行業(yè)器件工藝,推出可應用于50G PON的濾光片產品,并在50G PON濾光片指標的基礎上,G/XG(S)/50G PON三模共存的Zblock可以按照任意波長順序組裝。10月31日,永鼎光電子完成首個 G/XG(S)/50G PON三模共存的Zblock樣品,且測試指標完全符合ITU-T G.9805系列的指標要求。此外,永鼎光電子于全球率先推出了推出一系列低插損、高隔離度、高可靠性且多種PON共存的WDM無源模組,可以可分解、復用EPON、GPON、NGPON、50G PON等各種PON網絡,可滿足客戶的定制化需求。

  王明利介紹到,基于核心鍍膜技術工藝平臺,永鼎光電子于國內率先發(fā)布了量產商用50GHz/100GHz DWDM TFF薄膜濾光片。除了通訊應用,永鼎光電子的薄膜濾波片還可以用于激光雷達、生物醫(yī)療等領域。在50G PON應用上,永鼎光電子更是緊隨電信運營商發(fā)展角度,公司于4月攜手中國電信研究院和華為公司完成了基于50G PON的工業(yè)互聯網應用試點,把業(yè)界最新的50G PON雙模全光網技術與自研工業(yè)PON自服務平臺相結合。

內容來自:訊石光通訊網
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文章標題:永鼎光電子:三模共存波分組件助力50G PON突破技術挑戰(zhàn)
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