消息稱蘋(píng)果將在A15芯片中使用臺(tái)積電的增強(qiáng)版5納米技術(shù)

  ICC訊  據(jù)臺(tái)灣工商時(shí)報(bào)報(bào)道，蘋(píng)果今年下半年推出新款 iPad 及 iPhone 12 產(chǎn)品線，采用自家設(shè)計(jì)的 A14 系列處理器，其中，iPad Air 及 iPhone 12 全系列都采用 A14 應(yīng)用處理器，至于即將在 11 月發(fā)表的 Arm 架構(gòu) Macbook 則會(huì)採(cǎi)用自行研發(fā)的 A14X 處理器。蘋(píng)果 A14 以及 A14X 均已在臺(tái)積電采用 5納米制程量產(chǎn)。

  消息稱，蘋(píng)果已著手進(jìn)行新一代A15系列處理器開(kāi)發(fā)，預(yù)期會(huì)采用臺(tái)積電5nm加強(qiáng)版(N5P)制程，明年第三季開(kāi)始投片。

  晶圓代工龍頭臺(tái)積電及微影設(shè)備大廠 ASML 于上周法人說(shuō)明會(huì)透露了更多 3 納米細(xì)節(jié)。臺(tái)積電 3 納米采用鰭式場(chǎng)效電晶體(FinFET)架構(gòu)及極紫外光(EUV)微影技術(shù)，邏輯密度與 5 納米相較將大幅增加 70%，且 EUV 光罩層數(shù)將倍增且超過(guò) 20 層。因此，臺(tái)積電積極采購(gòu) EUV 曝光機(jī)設(shè)備，未來(lái)三~ 五年仍將是擁有全球最大 EUV 產(chǎn)能的半導(dǎo)體廠，包括家登及崇越等供應(yīng)商可望受惠。

  臺(tái)積電 EUV 微影技術(shù)已進(jìn)入量產(chǎn)且制程涵蓋 7 + 納米、6納米、5納米。據(jù)設(shè)備業(yè)者消息，臺(tái)積電 7 + 納米采用 EUV 光罩層最多達(dá)四層，超微新一代 Zen 3 架構(gòu)處理器預(yù)期是采用該制程量產(chǎn)。6 納米已在第四季進(jìn)入量產(chǎn)，EUV 光罩層數(shù)較 7 + 納米增加一層，包括聯(lián)發(fā)科、輝達(dá)、英特爾等大廠都將采用 6 納米生產(chǎn)新一代產(chǎn)品。

  臺(tái)積電下半年開(kāi)始量產(chǎn) 5 納米制程，主要為蘋(píng)果量產(chǎn) A14 及 A14X 處理器，包括超微、高通、輝達(dá)、英特爾、博通、邁威爾等都會(huì)在明年之后導(dǎo)入 5 納米制程量產(chǎn)新一代產(chǎn)品。5 納米 EUV 光罩層數(shù)最多可達(dá) 14 層，所以 Fab 18 廠第一期至第三期已建置龐大 EUV 曝光機(jī)臺(tái)設(shè)備因應(yīng)強(qiáng)勁需求，臺(tái)積電明年將推出 5 納米加強(qiáng)版 N5P 制程并導(dǎo)入量產(chǎn)，后年將推出 5 納米優(yōu)化后的 4 納米制程，設(shè)備業(yè)者預(yù)期 N5P 及 4 納米的 EUV 光罩層數(shù)會(huì)較 5 納米增加。

  臺(tái)積電在日前的法說(shuō)會(huì)中宣布，3 納米研發(fā)進(jìn)度符合預(yù)期且會(huì)是另一個(gè)重大制程節(jié)點(diǎn)，與 5 納米制程相較，3 納米的邏輯密度可增加 70%，在同一功耗下可提升 15% 的運(yùn)算效能，在同一運(yùn)算效能下可減少 30% 功耗。3 納米制程采用的 EUV 光罩層數(shù)首度突破 20 層，業(yè)界預(yù)估最多可達(dá) 24 層。

  ASML 執(zhí)行長(zhǎng) Peter Wennink 在日前法說(shuō)會(huì)中指出，5 納米邏輯制程采用的 EUV 光罩層數(shù)將超過(guò) 10 層，3 納米制程采用的 EUV 光罩層數(shù)會(huì)超過(guò) 20 層，隨著制程微縮 EUV 光罩層數(shù)會(huì)明顯增加，并取代深紫外光(DUV)多重曝光制程。

  臺(tái)積電 5 納米及 3納米的 EUV 光罩層數(shù)倍數(shù)增加，提供 EUV 光罩盒(EUV Pod)的家登受惠最大，今、明兩年產(chǎn)能均已被大客戶預(yù)訂一空。至于 EUV 產(chǎn)能大幅提高，代理 EUV 光阻液的崇越接單暢旺，訂單同樣排到明年下半年。