突發(fā)！日本光刻膠大廠斷供中國多家晶圓廠！

  ICC訊  5月27日，據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體報道，由于日本信越化學KrF光刻膠產(chǎn)能不足等原因，導致中國大陸多家晶圓廠KrF光刻膠供應(yīng)緊張，部分中小晶圓廠KrF光刻膠甚至出現(xiàn)了斷供!

  據(jù)悉，信越化學之所以停止供貨部分晶圓廠KrF光刻膠，與數(shù)月前日本福島東部海域發(fā)生7.3級地震有莫大關(guān)聯(lián)。半導體光刻膠是光刻過程的關(guān)鍵耗材，光刻膠的質(zhì)量和性能對光刻工藝有著重要影響，因其技術(shù)壁壘高而長期被海外大廠所主導，是半導體國產(chǎn)化的一道大坎。

  根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，日本幾大廠商在g線/i線、KrF、ArF膠市場中市占率分別為61%、80%、93%，而國內(nèi)g線/i線自給率約為20%，KrF光刻膠的自給率不足5%，12寸硅片的ArF光刻膠目前尚無國內(nèi)企業(yè)可以大規(guī)模生產(chǎn)。根據(jù)智研咨詢預測，2022年中國大陸半導體光刻膠市場空間將會接近55億元，是2019年的兩倍。

  以日本半導體光刻膠發(fā)展史為鑒，中國國產(chǎn)半導體光刻膠迎來發(fā)展良機。上市公司中，晶瑞股份KrF(248nm深紫外)光刻膠完成中試，產(chǎn)品分辨率達到了0.25-0.13μm的技術(shù)要求，i線光刻膠近年已向中芯國際等企業(yè)供貨。上海新陽開發(fā)的365nm I線、248nm KrF、193nm ArF干法及濕法光刻膠可適應(yīng)國內(nèi)0.35-0.11微米、90-28納米芯片工藝技術(shù)節(jié)點的需求。南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過下游客戶的使用認證，成為通過產(chǎn)品驗證的第一只國產(chǎn)ArF光刻膠，已完成的產(chǎn)線設(shè)計產(chǎn)能為25噸。