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OpenLight與Tower Semiconductor驗證400G每通道硅光調(diào)制器性能

摘要:OpenLight與Tower Semiconductor基于商用化集成硅光平臺,PH18DA成功驗證了400G每通道調(diào)制器性能,為下一代3.2T及更高速率DR8/FR4提供商業(yè)化可行路徑。

  創(chuàng)新推動高量產(chǎn)硅光400每通道平臺,滿足下一代3.2T光通信架構(gòu)需求

  ICC訊 3月12日,全球定制化PASIC芯片設(shè)計與制造領(lǐng)導(dǎo)者OpenLight,與高價值模擬半導(dǎo)體解決方案領(lǐng)先代工廠Tower Semiconductor,宣布基于商用化集成硅光平臺,PH18DA成功驗證了400G每通道調(diào)制器性能。該調(diào)制器采用行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)PAM-4調(diào)制格式,驅(qū)動電壓峰峰值僅需0.6伏,消光比優(yōu)于3.5分貝。此次400G演示基于OpenLight的硅光知識產(chǎn)權(quán)(IP),并采用Tower Semiconductor現(xiàn)有硅光平臺實現(xiàn)流片(該平臺已支持客戶實現(xiàn)100G及200G每通道應(yīng)用)。

  此次集成硅光技術(shù)Demo旨在支持下一代400G每通道的光通信架構(gòu),提供從100G、200G到400G的可擴展解決方案,以滿足云計算、人工智能(AI)及機器學(xué)習(xí)(ML)應(yīng)用對高速數(shù)據(jù)傳輸?shù)目焖僭鲩L需求。通過在所有四個粗波分復(fù)用(CWDM)波長上實現(xiàn)400G每通道傳輸,該技術(shù)為下一代3.2Tbps及更高速率的DR8與FR4解決方案提供了商業(yè)化可行路徑。

  目前,由于純硅基調(diào)制器無法支持400G比特率,使得業(yè)界迫切需要一種高性價比解決方案。針對數(shù)據(jù)中心與AI應(yīng)用(包括線性直驅(qū)LPO和共封裝光學(xué)CPO),基于異構(gòu)集成(heterogeneous integration)的器件展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢:小尺寸、高帶寬、低驅(qū)動電壓,并可在硅光平臺上實現(xiàn)規(guī)?;慨a(chǎn)。除400G調(diào)制器的異構(gòu)集成外,該平臺還可將激光器、光放大器等元件在密集光子集成電路(PIC)中實現(xiàn)單片集成,兼顧成本與能效。

  OpenLight首席執(zhí)行官Dr. Adam Carter表示:“與Tower Semiconductor的合作是先進(jìn)硅光技術(shù)融入數(shù)據(jù)中心領(lǐng)域的關(guān)鍵一步。此次成功驗證為高速網(wǎng)絡(luò)技術(shù)的突破性進(jìn)展奠定了基礎(chǔ)。借助現(xiàn)有200G異構(gòu)調(diào)制器設(shè)計,我們助力客戶實現(xiàn)PASIC設(shè)計從100G、200G到400G每通道的平滑演進(jìn),有效縮短設(shè)計周期、布局優(yōu)化及上市時間 — 400G調(diào)制器可直接替換現(xiàn)有200G調(diào)制器PASIC設(shè)計。采用相同設(shè)計的另一優(yōu)勢在于已驗證的高可靠性能,以及封裝至集成光學(xué)組件時使用倒裝(flip-chip)芯片工藝的能力?!?

  Tower Semiconductor首席執(zhí)行官Russell Ellwanger表示:“我們很高興與OpenLight合作,利用其尖端硅光技術(shù)開發(fā)支持400G/通道的高性價比方案。這是對現(xiàn)有PH18DA平臺(已支持100G及200G/通道)的延伸,現(xiàn)可為400G/通道提供成熟解決方案,并立即開放客戶原型設(shè)計。這是為下一代光通信技術(shù)提供可擴展、高可靠、高性能且可量產(chǎn)解決方案的重要里程碑。通過采用高塔PH18DA平臺,此次合作使傲光科技的異構(gòu)集成技術(shù)無需依賴薄膜鈮酸鋰(TFLN)、鈦酸鋇(BTO)或聚合物等復(fù)雜昂貴替代方案,即可實現(xiàn)向更高速率的安全過渡?!?

  OpenLight和Tower Semiconductor將出席4月1-3日在美國舊金山舉辦的OFC 2025,OpenLight展位號# 4231,Tower Semiconductor 展位號#3222。

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