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上海微電子今日交付中國首臺光刻機?且慢歡呼!

摘要:光刻機,是芯片制造的核心設備,也是研發(fā)難度最大的半導體設備,是“卡脖子”技術(shù)。長久以來,阿斯麥壟斷著全球最頂尖的光刻機市場。今天,上海微電子舉行中國首臺2.5D/3D先進封裝光刻機發(fā)運儀式。

 ICC訊  光刻機,是芯片制造的核心設備,也是研發(fā)難度最大的半導體設備,是困擾我國集成電路產(chǎn)業(yè),乃至整個信息通信產(chǎn)業(yè),甚至是數(shù)字經(jīng)濟發(fā)展的“卡脖子”技術(shù)。

  長久以來,阿斯麥壟斷著全球最頂尖的光刻機市場,但這個壟斷正在逐漸被瓦解。據(jù)來自上海微電子裝備(集團)股份有限公司(以下簡稱“上海微電子”)的官方信息顯示,今天,上海微電子舉行中國首臺2.5D/3D先進封裝光刻機發(fā)運儀式。

  但需要指出的是,在社交媒體上沸騰的“上海微電子今日交付中國首臺光刻機”是非常不嚴謹?shù)?,網(wǎng)友們的心情完全可以理解,但我們還是要客觀冷靜的看待這個事件。上海微電子此次交付的產(chǎn)品是用于IC后道制造的“先進封裝光刻機”,并不是業(yè)界通常認為的應用于IC前道制造的“光刻機”,而后道制造和前道制造的技術(shù)難度差距是非常大的。

  首臺先進封裝光刻機!

  去年9月,上海微電子舉行新產(chǎn)品發(fā)布會,宣布推出新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。

  此次推出的新品光刻機主要應用于高密度異構(gòu)集成領(lǐng)域,具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光視場等特點,可幫助晶圓級先進封裝企業(yè)實現(xiàn)多芯片高密度互連封裝技術(shù)的應用,滿足異構(gòu)集成超大芯片封裝尺寸的應用需求,同時將助力封裝測試廠商提升工藝水平、開拓新的工藝。上海微電子表示,已與多家客戶達成新一代先進封裝光刻機銷售協(xié)議。

  上海微電子指出,先進封裝光刻機是公司目前的主打產(chǎn)品,全球市場占有率連續(xù)多年排名第一。此次發(fā)運的產(chǎn)品是新一代的先進封裝光刻機,主要應用于高端數(shù)據(jù)中心高性能計算(HPC)和高端AI芯片等高密度異構(gòu)集成領(lǐng)域,可滿足2.5D/3D超大芯片尺寸的先封裝應用需求,代表了行業(yè)同類產(chǎn)品的最高水平,對豐富上海微電子的產(chǎn)品種類有著重要的意義。

  前道、后道還是要分清

  從半導體芯片制造工藝流程來看,在晶圓制造環(huán)節(jié)使用的設備被稱為前道工藝設備。其中,光刻機是半導體設備中技術(shù)壁壘最高的設備,其研發(fā)難度大,但價值量占晶圓制造設備中的30%。在封測環(huán)節(jié)使用的設備被稱為后道工藝設備,可分為測試設備和封裝設備。

  其實,上海微電子自“十五”起,先后承擔了多個光刻機研制專項任務。目前,上海微電子無論是在后道工藝設備還是前道工藝設備都有自己的產(chǎn)品。從官網(wǎng)的數(shù)據(jù)來看,500系列光刻機,主要用于IC后道先進封裝;而600系列光刻機則用于IC前道制造。

  SSX600系列步進掃描投影光刻機采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調(diào)焦調(diào)平技術(shù),以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術(shù),可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求。該設備可用于8寸線或12寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。也就是說,在前道制造方面,我國與海外先進工藝還存在著很大差距。

  (資料來源:《半導體芯片制造技術(shù)》、西南證券)

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