英特爾成立集成光學(xué)研究中心 聚焦數(shù)據(jù)中心互聯(lián)光學(xué)I/O技術(shù)創(chuàng)新

  ICC訊 （編譯：Aiur）近日，英特爾實(shí)驗(yàn)室成立了數(shù)據(jù)中心互聯(lián)集成光子學(xué)英特爾研究中心。該中心將專(zhuān)注于光子學(xué)技術(shù)與器件、CMOS電路與鏈路架構(gòu)以及封裝集成與光纖耦合，并以加速性能規(guī)模和集成的光學(xué)輸入/輸出(I/O)技術(shù)創(chuàng)新為使命。

  為何重要？如今，服務(wù)器到服務(wù)器之間急劇增長(zhǎng)的數(shù)據(jù)流量正在占用網(wǎng)絡(luò)基礎(chǔ)設(shè)施的性能，行業(yè)也加速接近電子I/O性能的瓶頸。當(dāng)需求持續(xù)增長(zhǎng)時(shí)，電子I/O功率性能的提升卻不能保持同步，將給計(jì)算運(yùn)作能力帶來(lái)限制。英特爾認(rèn)為，這種性能障礙可以通過(guò)集成計(jì)算硅和光學(xué)I/O性能來(lái)克服，而這正是研究中心聚焦的關(guān)鍵研究。

  英特爾近期展示了集成光學(xué)關(guān)鍵技術(shù)的構(gòu)成要素，光場(chǎng)、放大、探測(cè)、調(diào)制、CMOS接口電路和封裝集成是實(shí)現(xiàn)所需性能的重要因素，以取代電子成為主要的高帶寬封裝外接口。

  此外，光學(xué)I/O可在距離、帶寬密度、功耗和延遲等關(guān)鍵性能指標(biāo)上顯著優(yōu)于電子。當(dāng)然，在降低功耗和成本的同時(shí)，還需要在幾個(gè)方面進(jìn)一步通過(guò)創(chuàng)新來(lái)擴(kuò)展光學(xué)性能。

  關(guān)于研究中心：英特爾研究中心面向數(shù)據(jù)中心互聯(lián)集成光學(xué)研究，匯集了大學(xué)和世界知名研究人員，以加速性能擴(kuò)展和集成方面的光學(xué)I/O技術(shù)創(chuàng)新，該中心的研究愿景是探索滿足未來(lái)十年及以后的能源效率和帶寬性能所需要的技術(shù)演進(jìn)路徑。

  英特爾深知學(xué)術(shù)界是技術(shù)創(chuàng)新的核心，其致力于促進(jìn)全球領(lǐng)先學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)的研究創(chuàng)新工作，該研究中心反映了英特爾一直致力于與學(xué)術(shù)界合作開(kāi)發(fā)新的和先進(jìn)的技術(shù)，以改進(jìn)和提升人們對(duì)計(jì)算的認(rèn)知。