ICCSZ訊 (編輯:Nicole)您是否剛進(jìn)入光通信行業(yè)?是否想對(duì)光器件技術(shù)發(fā)展歷程有一個(gè)系統(tǒng)了解?又是否已經(jīng)畢業(yè)離開學(xué)堂多年,希望在工作之余繼續(xù)進(jìn)修?如果剛好有以上需求,那接下來我們介紹的云課堂系列或許能為您的職業(yè)生涯錦上添花。
近日,訊石攜手原上海交通大學(xué)應(yīng)用物理系主任、光學(xué)博士生導(dǎo)師和IEEE終身高級(jí)會(huì)員——陳益新教授正式面向光通信行業(yè)從業(yè)人員推出云課堂系列——《光纖通信光器件技術(shù)和應(yīng)用》。
陳益新教授
陳益新教授,江蘇江陰人,1952年于交通大學(xué)畢業(yè)后留校任教。先后在上海交大任電氣絕緣教研室主任、應(yīng)用物理系主任、光學(xué)及光子學(xué)研究所名譽(yù)所長、教授、博士生導(dǎo)師、121研究中心總工程師等職。在上海交大培養(yǎng)碩士研究生、博士研究生和博士后共五十余名。
1979年作為首批赴美訪問學(xué)者在圣地亞哥加州大學(xué)從事光纖通信和集成光學(xué)研究。出版有《集成光學(xué)五十年》等六部學(xué)術(shù)著作,發(fā)表學(xué)術(shù)論文和會(huì)議報(bào)告二百余篇。多次負(fù)責(zé)舉辦國際和全國學(xué)術(shù)會(huì)議,獲得國務(wù)院特別科研獎(jiǎng)和上海科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng),國家有突出貢獻(xiàn)中青年專家、國務(wù)院特殊津貼、上海市勞動(dòng)模范、上海市優(yōu)秀教育工作者等稱號(hào)和獎(jiǎng)勵(lì)。美國IEEE學(xué)會(huì)終身高級(jí)會(huì)員,曾受諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)提名委員會(huì)邀請(qǐng),提名高錕成功獲得諾獎(jiǎng)。
1998年至今,先后曾任美國E-TEK公司研發(fā)經(jīng)理、JDS Uniphase公司(深圳)首席技術(shù)顧問、Bookham公司(深圳)總工程師、香港Photonic Manufacturing Service Ltd 首席顧問、訊石信息咨詢公司董事、OFC中國組委會(huì):海倫溫國際展覽高級(jí)顧問、俊知集團(tuán)有限公司高級(jí)顧問、上海鴻輝光通科技股份有限公司首席技術(shù)顧問、亨通通信產(chǎn)業(yè)集團(tuán)高級(jí)顧問、上海市光電子行業(yè)協(xié)會(huì)首席專家兼學(xué)術(shù)交流部部長、以及中電元協(xié)光電線纜及光器件分會(huì)顧問等職。
本次課程將通過網(wǎng)絡(luò)直播方式進(jìn)行,上課時(shí)間將安排在工作日晚上,具體時(shí)間待報(bào)名后工作人員會(huì)另外通知。
非常榮幸邀請(qǐng)到陳益新教授加入“2020年訊石光通信云講座” ,為我們帶來《光纖通信光器件技術(shù)和應(yīng)用》系列課程,期待滿滿的干貨分享。
誠摯歡迎您報(bào)名聽課!我們線上直播見!
上課方式:
1、聽課方式:網(wǎng)課直播;
2、課時(shí)安排:一節(jié)課預(yù)計(jì)1小時(shí),開始兩周一節(jié)課、后期一周一節(jié)課;
3、上課時(shí)間:周二晚上19:30-20:30,預(yù)計(jì)4月中旬開始(具體時(shí)間另行通知);
4、報(bào)名費(fèi)用:99元(10節(jié)課/人,價(jià)格為不開發(fā)票價(jià),可開收據(jù),課程不支持回放,課件在課后提供對(duì)外版);
5、報(bào)名與咨詢電話:報(bào)名請(qǐng)?zhí)峁┬彰?公司名+電話+郵箱+所在地區(qū),歡迎加微信了解!
唐女士:13657803412(微信同號(hào));
陳女士:15919593430(微信同號(hào));
曾先生:13699887208(微信同號(hào));
課程概況:共10節(jié)
第一講:光纖通信網(wǎng)絡(luò)及光器件應(yīng)用概述
內(nèi)容概況:光纖發(fā)明的劃時(shí)代意義,光纖通信的發(fā)展階段,光纖通信網(wǎng)絡(luò)構(gòu)成和各類光器件的應(yīng)用,光器件分類及其應(yīng)用材料和制造工藝特點(diǎn),我國光器件產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀,十三五光器件發(fā)展規(guī)劃及重點(diǎn)發(fā)展產(chǎn)品和技術(shù)。
第二講:半導(dǎo)體激光器技術(shù)和應(yīng)用
內(nèi)容概況:半導(dǎo)體的光發(fā)射和光吸收原理,半導(dǎo)體激光器的技術(shù)要求,半導(dǎo)體材料選擇(InP和GaAs),發(fā)光二極管(LED)、激光二極管(LD),F(xiàn)abry-Perot(FP)激光器、分布反饋(DFB)激光器、分布布拉格反射器(DBR)激光器和垂直腔表面發(fā)射激光器(VCSEL)的結(jié)構(gòu)、特性和應(yīng)用,可調(diào)激光器的類型、特性和應(yīng)用,我國半導(dǎo)體激光器現(xiàn)狀及與國際先進(jìn)水平差距。
第三講:光探測器原理技術(shù)和應(yīng)用
內(nèi)容綱要:光電探測器(PD)的功能和技術(shù)要求,p型-本征-n型光電二極管(PIN)結(jié)構(gòu)和特性,雪崩光電二極管(APD)結(jié)構(gòu)和特性,PIN-FET(場效應(yīng)晶體管),LD和PD芯片封裝結(jié)構(gòu)和性能。光探測技術(shù)類別,直接探測和相干探測比較,實(shí)現(xiàn)相干光通信的關(guān)鍵技術(shù),相干技術(shù)在光傳輸網(wǎng)中的應(yīng)用。
第四講:光調(diào)制器技術(shù)和應(yīng)用
內(nèi)容概況:光通信調(diào)制技術(shù)的重要性,光調(diào)制的類型,直接(內(nèi))調(diào)制激光器的特性和利弊,光調(diào)制器的種類及比較,鈮酸鋰光調(diào)制器工作原理、結(jié)構(gòu)性能及優(yōu)缺點(diǎn),半導(dǎo)體電吸收光調(diào)制器工作原理、結(jié)構(gòu)性能及優(yōu)缺點(diǎn),高級(jí)光調(diào)制器件和技術(shù)最新進(jìn)展,我國光調(diào)制器現(xiàn)狀及與國際先進(jìn)水平差距。
第五講:光復(fù)用技術(shù)和器件
內(nèi)容概況:光通信系統(tǒng)的復(fù)用技術(shù),光時(shí)分復(fù)用光器件,熔融拉錐光纖耦合器,平面光路(PLC)光分路器,光波分復(fù)用光器件,薄膜光濾波器(TFF),梳狀濾波器(Interleaver),陣列波導(dǎo)光柵(AWG)工作原理、結(jié)構(gòu)、特性和應(yīng)用。
第六講:收發(fā)光模塊及在NGPON、數(shù)據(jù)中心和5G的應(yīng)用
內(nèi)容概況:光模塊的分類,構(gòu)成光模塊的主要光電元器件,光模塊的結(jié)構(gòu)原理框圖,光模塊的性能指標(biāo) ,光模塊封裝技術(shù)演進(jìn),100G及以上速率光模塊,下一代光接入網(wǎng)(NGPON)光模塊,數(shù)據(jù)中心光互連光模塊,5G無線移動(dòng)接入光模塊。
第七講:光開關(guān)和光交換器件和技術(shù)
內(nèi)容概況:光開關(guān)和光交換在光網(wǎng)中的功能,光開關(guān)的分類,鈮酸鋰光波導(dǎo)電光開關(guān),光學(xué)微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)技術(shù),二維和三維MEMS光開關(guān),光插分復(fù)用器(OADM),波長選擇開關(guān)(WSS),可重構(gòu)光插分復(fù)用器(ROADM), ROADM在全光網(wǎng)中的應(yīng)用。
第八講:光放大器原理技術(shù)和應(yīng)用
內(nèi)容綱要:光放大器的類別,摻雜光纖放大器的工作原理,摻雜光纖種類和放大光波段,EDFA的結(jié)構(gòu)組成、主要性能指標(biāo)和不同應(yīng)用的要求,拉曼光纖放大器的工作原理、構(gòu)成、特性和應(yīng)用,EDFA和拉曼混合放大,半導(dǎo)體光放大器的工作原理、器件結(jié)構(gòu)和性能,各種光放大器性能比較及適合的應(yīng)用場合。
第九講:硅光器件的崛起和進(jìn)展
內(nèi)容概況:硅光子的再起的原由與進(jìn)展,硅光子光器件的優(yōu)點(diǎn)和不足,硅光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)尺寸和特性,硅光調(diào)制器的原理和特性,硅光垂直光柵耦合器結(jié)構(gòu)和性能,鍺硅異質(zhì)光探測器結(jié)構(gòu)工藝和性能,100G和400G硅光收發(fā)模塊,我國硅光研究和產(chǎn)業(yè)化現(xiàn)狀及國際差距。
第十講:展望─集成光路是光器件創(chuàng)新的必由之路
內(nèi)容概況:集成光學(xué)的誕生及意義,集成光學(xué)光波導(dǎo)的理論基礎(chǔ),集成光路的基板材料和相應(yīng)的制造工藝,InP、Si、和PLC(SiO2)基的集成光路比較,集成光路新原理、新材料和新工藝展望,我國集成光學(xué)研究和集成光路器件產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀及與國際先進(jìn)水平的差距。