激光器芯片技術：EML vs DML

  100G QSFP28光收發(fā)器是當前光通信應用市場重點部署的產品類型，盡管業(yè)內初始設計方案是使用EML(電吸收調制器激光器)，但由于EML供應的嚴重短缺，造成光收發(fā)器設計人員不得不采用DML(直接調制激光器)作為替代方案。如今，商用產品的種類已經擴大了一倍，并且從性能和成本的角度來看，光模塊EML和DML方案所遇到的問題也是不同的。

  什么是激光器

  激光即“受激輻射光放大”的簡稱。換而言之，將電流施加到“光增益介質”材料上，并由該材料激發(fā)具有額外能量的電子，這些電子經過一段時間后失去能量的同時，它們會釋放一個光子(一種光粒子)，釋放光子是激光的“受激輻射發(fā)射”部分。此時，光的能量依然微弱，兩側的腔面來回反射光，并撞擊材料的其他部分，使這些部分也釋放光子，進而產生更多的光，這就是“光放大”。當材料所有部分都產生光時便達到飽和，這些光在非常窄的波長下產生非常強的光束，我們將其稱為激光束。光穿過兩個腔面之間的材料，在它們之間來回反射光線。然而，其中一個腔面只能部分反射光線，讓一些光線逃逸，而逃逸的光構成激光束。

Source: researchgate.net

  DML（直接調制激光器）

  DML設計采用分立反饋結構，其波導擁有一個衍射光柵來穩(wěn)定工作，進而實現(xiàn)直接調制。它的激光器是分立反饋激光器(DFB)。對于DML激光器而言，調制速度和傳輸距離是隨激光器的頻譜線寬而變化。事實上，線寬越窄。調制速度(速率)就越高，傳輸距離也越長。

  基本上，“1”和“0”序列通過調制注入電流被放置在光信號上，這就像一個開/關電信號。因此，DML設計需要由電流直接調制光信號，方法是將激光器“打開”以產生“1”或“關閉”以產生“0”。該調制注入電流由外置IC電路產生，驅動激光器以產生光輸出功率。

  但是，直接調制會改變激光的特性，例如折射率，從而導致較大的色散。與EML相比，由于更大的色散、更低的頻率響應和相對較低的消光比，DML的性能在較遠距離(>10公里)時會下降。DML本身是一個單芯片，為運作提供了比較簡單的電路布局。因此，它將實現(xiàn)更緊湊的設計和更低的功耗。

  EML（電吸收調制激光器）

  EML是指集成外置調制器的激光器，這種外置調制器被稱為電吸收調制器或單片集成EAM。EML結構和DML相同，但是與DML不同的是EML信號調制不在電側而在EMA側，這表示電信號產生連續(xù)的光信號，而電信號on/off是在EAM調制光信號之后進行。

  與DML設計相反，EML設計不直接調制激光，擁有不改變激光特性的特點。EML在高速、長途傳輸應用上具有優(yōu)勢，這是因為它的更小的色散和在高速工作下的穩(wěn)定波長。

  EML設計需要更高的功率和更復雜的電路布局來實現(xiàn)運作。EML和DML設計都遵循行業(yè)MSA標準，兩種設計都在100G QSFP28收發(fā)器上實現(xiàn)了商用。事實上，一個QSFP28 LR4模塊采用兩種設計方案制作，對于理解這兩種設計所產生的性能區(qū)別而言十分重要。

  文章來源：Skylane Optics

  https://www.skylaneoptics.com/en/articles/eml-vs-dml/