海外專家：美國(guó)圍堵難以遏制中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展

  ICC訊  美國(guó)商務(wù)部工業(yè)和安全局 (BIS) 發(fā)布針對(duì)中國(guó)的先進(jìn)EDA軟件、超寬禁帶半導(dǎo)體襯底片等新一輪出口管制政策后，業(yè)內(nèi)專家認(rèn)為美國(guó)連番遏制措施難以實(shí)質(zhì)性影響中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，反而將阻礙美國(guó)及其盟友技術(shù)創(chuàng)新。

  波士頓咨詢公司副總監(jiān) Karl Breidenbach 接受行業(yè)媒體采訪時(shí)表示，美國(guó)多邊出口管制將為高度相互依存的氧化鎵和金剛石基半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展帶來(lái)額外負(fù)擔(dān)，歐洲和日本公司正在開發(fā)的MOCVD等特殊工藝創(chuàng)新步伐可能被拖慢。

  TechInsights 分析師 Dan Hutcheson 則表示，對(duì)運(yùn)用于GAAFET設(shè)計(jì)制造的EDA工具限制，主要影響美國(guó)公司如 Ansys、Cadence、Synopsys，從過去經(jīng)驗(yàn)看，嚴(yán)格的出口管制將刺激中國(guó)本土設(shè)計(jì)工具加速發(fā)展，與Hutcheson交流的業(yè)內(nèi)專家認(rèn)為，中國(guó)國(guó)產(chǎn)EDA工具在28納米及以上節(jié)點(diǎn)已具備較強(qiáng)競(jìng)爭(zhēng)力，Hutcheson判斷中國(guó)EDA廠商將在三到四年內(nèi)達(dá)到業(yè)界前沿水平。

  奧爾布賴特石橋公司中國(guó)高級(jí)副總裁 Paul Triolo 認(rèn)為，美國(guó)的目標(biāo)是使中國(guó)在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域落后西方兩到三代，不過只要中國(guó)IC設(shè)計(jì)企業(yè)仍可通過臺(tái)積電、三星、英特爾在海外代工平臺(tái)制造產(chǎn)品，就仍然能夠參與全球市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)。

  Triolo還指出，限制先進(jìn)EDA設(shè)計(jì)工具的規(guī)則仍然有待明確，可否將相關(guān)功能從整體軟件包中分離尚無(wú)法確定，對(duì)半導(dǎo)體制造設(shè)備的限制同樣如此，冷戰(zhàn)式的出口管制體系難以適應(yīng)于高度發(fā)達(dá)的民用產(chǎn)業(yè)全球供應(yīng)鏈。