韓國(guó)自研EUV光刻膠新進(jìn)展：靈敏度提高，可加快芯片生產(chǎn)速度

  ICC訊  據(jù)韓媒TheElec報(bào)道，韓國(guó)企業(yè)Dongjin Semichem東進(jìn)世美肯在EUV光刻膠的研發(fā)上取得了新突破，其光學(xué)靈敏度得到了提升，有助于加快芯片生產(chǎn)的速度。這一消息是在5月19日舉辦的SEMI SMC Korea 2023芯片行業(yè)峰會(huì)上公布的。

  東進(jìn)世美肯改進(jìn)了其光刻膠的分辨率、線寬粗糙度、靈敏度。在靈敏度方面，其EUV光刻膠曝光所需要的能量從2020年的80mj/cm2，降低到了如今的40mj/cm2至50mj/cm2之間，靈敏度幾乎提高了一倍。

  外媒表示，光刻膠靈敏度的提升，有助于幫助芯片代工廠每小時(shí)處理更多的晶圓，從而提高生產(chǎn)效率，降低制造成本。

  目前除了韓國(guó)的東進(jìn)世美肯以外，日本公司JSR、信越化學(xué)、東京應(yīng)化工業(yè)，也有能力生產(chǎn)EUV光刻膠。